Intel costruirà fabbrica per chip da 3,5 mld dollari in Isr

[Staff]

<p> Intel Corp. costruirà in Israele un impianto da 3,5 miliardi di dollari per la fabbricazione di microprocessori, ha detto oggi la società Usa, nel maggiore investimento mai compiuto dalla società nel paese.</p>
<p> La fabbrica Intel produrrà wafers da 300 mm, utilizzando una tecnologia di lavorazione da 45 nanometri, dalla seconda metà del 2008.</p>
<p> "Intel è impegnata ad aumentare il suo margine di vantaggio nella costruzione dei semiconduttori", ha detto il presidente e ad Paul Otellini in una nota.</p>
<p> Il governo israeliano ha già approvato un finanziamento di 525 milioni di dollari per le infrastrutture e di altri 600 milioni per ammodernare una fabbrica già esistente.</p>
<p> La costruzione dell'impianto Intel, il secondo con tecnologia da 45 nanometri nel mondo, comincerà subito, ha detto la società.</p>
<p> La tecnologia da 45 nanometri permetterà la costruzione di circuiti per microchip di dimensioni ridotte del 50% rispetto allo standard attuale.</p>
<p> Intel ha detto che il progetto creerà oltre 2000 nuovi posti di lavoro nella città meridionale di Kiryat Gat, dove si trova l'impianto attuale che dà lavoro a circa 3500 persone.</p>
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